간략한 소개
제품명: 사염화하프늄
CAS 번호: 13499-05-3
화합물 공식: HfCl4
분자량: 320.3
외관: 흰색 분말
| 목 | 사양 |
| 모습 | 흰색 가루 |
| HfCl4+ZrCl4 | ≥99.9% |
| Zr | ≤200ppm |
| Fe | ≤40ppm |
| Ti | ≤20ppm |
| Si | ≤40ppm |
| Mg | ≤20ppm |
| Cr | ≤20ppm |
| Ni | ≤25ppm |
| U | ≤5ppm |
| Al | ≤60ppm |
- 이산화하프늄 전구체: 사염화하프늄은 우수한 유전 특성을 가진 물질인 이산화하프늄(HfO2)을 생산하는 전구체로 주로 사용됩니다. HfO2는 반도체 산업에서 트랜지스터와 커패시터의 고유전율 유전체 응용 분야에 널리 사용됩니다. HfCl4는 이산화하프늄 박막을 형성할 수 있어 첨단 전자 소자 제조에 필수적입니다.
- 유기합성 촉매: 사염화하프늄은 다양한 유기 합성 반응, 특히 올레핀 중합의 촉매로 사용될 수 있습니다. 루이스산 특성은 활성 중간체 형성에 도움을 주어 화학 반응의 효율을 향상시킵니다. 이러한 응용은 화학 산업에서 중합체 및 기타 유기 화합물의 생산에 매우 유용합니다.
- 핵 응용 프로그램: 사염화하프늄은 중성자 흡수 단면적이 크기 때문에 원자력 분야, 특히 원자로 제어봉에 널리 사용됩니다. 하프늄은 중성자를 효과적으로 흡수할 수 있어 핵분열 과정을 조절하는 데 적합한 소재로, 원자력 발전의 안전성과 효율을 향상시키는 데 기여합니다.
- 박막 증착: 사염화하프늄은 화학 기상 증착(CVD) 공정에서 하프늄 기반 물질의 박막을 형성하는 데 사용됩니다. 이러한 박막은 마이크로전자, 광학, 보호 코팅 등 다양한 응용 분야에 필수적입니다. 균일하고 고품질의 박막을 증착할 수 있는 HfCl4는 첨단 제조 공정에서 중요한 역할을 합니다.
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