디스프로슘 산화물(화학식 Dy₂O₃)은 디스프로슘과 산소로 구성된 화합물입니다. 디스프로슘 산화물에 대한 자세한 소개는 다음과 같습니다.
화학적 특성
모습:흰색의 결정성 분말.
용해도:물에는 녹지 않으나 산과 에탄올에는 녹는다.
자기:강한 자성을 가지고 있습니다.
안정:공기 중의 이산화탄소를 쉽게 흡수하고 일부는 탄산 디스프로슘으로 변합니다.
간략한 소개
| 제품명 | 디스프로슘 산화물 |
| 카스 번호 | 1308-87-8 |
| 청정 | 2N 5（Dy2O3/REO≥ 99.5%）3N （Dy2O3/REO≥ 99.9%）4N （Dy2O3/REO≥ 99.99%） |
| MF | 디이오3 |
| 분자량 | 373.00 |
| 밀도 | 7.81g/cm3 |
| 녹는점 | 2,408° C |
| 비등점 | 3900℃ |
| 모습 | 흰색 가루 |
| 용해도 | 물에는 녹지 않으나 강산에는 적당히 녹는다. |
| 다국어 | DysprosiumOxid, Oxyde De Dysprosium, 옥시도 델 디스프로시오 |
| 다른 이름 | 디스프로슘(III) 산화물, 디스프로시아 |
| HS 코드 | 2846901500 |
| 상표 | 시대 |
준비 방법
디스프로슘 산화물을 제조하는 방법은 여러 가지가 있으며, 그중 가장 널리 사용되는 방법은 화학적 방법과 물리적 방법입니다. 화학적 방법은 주로 산화법과 침전법을 포함하며, 두 방법 모두 화학 반응 과정을 수반합니다. 반응 조건과 원료 비율을 조절함으로써 고순도의 디스프로슘 산화물을 얻을 수 있습니다. 물리적 방법은 주로 진공 증착법과 스퍼터링법을 포함하며, 이는 고순도 디스프로슘 산화물 필름 또는 코팅을 제조하는 데 적합합니다.
화학적 방법에서 산화법은 가장 일반적으로 사용되는 제조 방법 중 하나입니다. 산화법은 디스프로슘 금속 또는 디스프로슘염을 산화제와 반응시켜 디스프로슘 산화물을 생성합니다. 이 방법은 조작이 간단하고 용이하며 비용이 저렴하지만, 제조 과정에서 유해 가스와 폐수가 발생할 수 있으므로 적절한 처리가 필요합니다. 침전법은 디스프로슘염 용액을 침전제와 반응시켜 침전물을 생성한 후, 여과, 세척, 건조 등의 단계를 거쳐 디스프로슘 산화물을 얻는 방법입니다. 이 방법으로 제조된 디스프로슘 산화물은 순도가 높지만, 제조 공정이 복잡합니다.
물리적 방법 중 진공 증착법과 스퍼터링법은 모두 고순도 디스프로슘 산화물 박막 또는 코팅을 제조하는 효과적인 방법입니다. 진공 증착법은 디스프로슘 원료를 진공 상태에서 가열하여 증발시킨 후 기판에 증착하여 박막을 형성합니다. 이 방법으로 제조된 박막은 순도가 높고 품질이 우수하지만 장비 비용이 높습니다. 스퍼터링법은 고에너지 입자를 사용하여 디스프로슘 타겟 물질에 충격을 가하여 표면 원자를 스퍼터링하여 기판에 증착시켜 박막을 형성합니다. 이 방법으로 제조된 박막은 균일도가 우수하고 접착력이 강하지만 제조 공정이 복잡합니다.
사용
디스프로슘 산화물은 광범위한 적용 시나리오를 가지고 있으며, 주로 다음과 같은 측면을 포함합니다.
자성 재료:디스프로슘 산화물은 거대 자기변형 합금(테르븀 디스프로슘 철 합금 등)을 제조하는 데 사용될 수 있으며, 자기 저장 매체 등으로도 사용될 수 있습니다.
핵 산업:디스프로슘 산화물은 중성자 포획 단면적이 크기 때문에 중성자 에너지 스펙트럼을 측정하거나 원자로 제어 재료의 중성자 흡수제로 사용할 수 있습니다.
조명 필드:산화디스프로슘은 새로운 광원인 디스프로슘 램프 제조에 중요한 원료입니다. 디스프로슘 램프는 높은 밝기, 높은 색온도, 작은 크기, 안정적인 아크 등의 특성을 가지고 있으며, 영화 및 TV 제작과 산업용 조명에 널리 사용됩니다.
다른 응용 프로그램:디스프로슘 산화물은 인광체 활성제, NdFeB 영구자석 첨가제, 레이저 결정 등으로도 사용될 수 있습니다.
시장 상황
우리나라는 산화디스프로슘의 주요 생산국이자 수출국입니다. 제조 공정의 지속적인 최적화를 통해 산화디스프로슘 생산은 나노, 초미세, 고순도, 환경 보호 방향으로 발전하고 있습니다.
안전
산화디스프로슘은 일반적으로 열압 밀봉된 이중 폴리에틸렌 비닐 봉지에 포장되어 외부 상자로 보호되며, 통풍이 잘 되고 건조한 창고에 보관됩니다. 보관 및 운송 시에는 방습 처리에 유의하고 포장 손상을 방지해야 합니다.
나노 디스프로슘 산화물은 기존의 디스프로슘 산화물과 어떻게 다릅니까?
기존의 디스프로슘 산화물과 비교했을 때, 나노 디스프로슘 산화물은 물리적, 화학적, 응용적 특성 면에서 상당한 차이점을 가지고 있으며, 이는 주로 다음과 같은 측면에서 나타납니다.
1. 입자 크기 및 비표면적
나노디스프로슘 산화물: 입자 크기는 보통 1~100나노미터이고, 비표면적이 매우 크고(예: 30m²/g), 표면 원자 비율이 높고, 표면 활동성이 강합니다.
전통적인 디스프로슘 산화물: 입자 크기가 보통 마이크론 수준으로 더 크고, 비표면적이 작고 표면 활동이 낮습니다.
2. 물리적 특성
광학 특성: 나노 디스프로슘 산화물: 굴절률과 반사율이 높고 우수한 광학 특성을 나타냅니다. 광 센서, 분광기 및 기타 분야에 사용될 수 있습니다.
전통적인 디스프로슘 산화물: 광학적 특성은 주로 높은 굴절률과 낮은 산란 손실에 반영되지만 광학 응용 분야에서 나노 디스프로슘 산화물만큼 뛰어나지는 않습니다.
자기적 특성: 나노 디스프로슘 산화물: 높은 비표면적과 표면 활성으로 인해 나노 디스프로슘 산화물은 자기 반응성과 자기 선택성이 더 뛰어나며 고해상도 자기 이미징 및 자기 저장에 사용될 수 있습니다.
전통적인 디스프로슘 산화물: 강한 자성을 가지고 있지만, 나노 디스프로슘 산화물만큼 자기적 반응이 크지 않습니다.
3. 화학적 특성
반응성: 나노 디스프로슘 산화물: 화학 반응성이 더 높고, 반응물 분자를 더 효과적으로 흡착하고 화학 반응 속도를 가속화할 수 있으므로 촉매 및 화학 반응에서 더 높은 활성을 나타냅니다.
전통적인 디스프로슘 산화물: 화학적 안정성이 높고 반응성이 비교적 낮습니다.
4. 적용 분야
나노 디스프로슘 산화물: 자기 저장 장치 및 자기 분리기 등의 자기 재료에 사용됩니다.
광학 분야에서는 레이저, 센서 등 고정밀 장비에 활용될 수 있습니다.
고성능 NdFeB 영구자석용 첨가제로 사용 가능.
전통적인 디스프로슘 산화물: 주로 금속 디스프로슘, 유리 첨가제, 자기광학 메모리 소재 등을 제조하는 데 사용됩니다.
5. 제조 방법
나노 디스프로슘 산화물: 일반적으로 용매열법, 알칼리 용매법 및 기타 기술을 통해 제조되며 입자 크기와 형태를 정확하게 제어할 수 있습니다.
전통적인 디스프로슘 산화물: 대부분 화학적 방법(산화법, 침전법 등) 또는 물리적 방법(진공 증착법, 스퍼터링법 등)으로 제조됨
게시 시간: 2025년 1월 20일